掌握關鍵重點
• 大日本印刷宣布 2026 至 2028 年投資 300 億日圓於半導體光罩設備。
• 投資金額較 2023 至 2025 年增加 50%。
• 2027 年開始量產極紫外線 (EUV) 曝光技術光罩。
• 強化高端、中端及低端光罩的生產體系。
• 預計 2028 年光罩事業營收較 2024 年增長 55%。
• 2027 年啟動「奈米壓印光刻 (NIL)」設備模板量產。
• 2025 年底於埼玉縣久喜市啟動 TGV 玻璃核心基板試點生產線。
• 2028 年目標實現 TGV 玻璃核心基板量產。
總結
大日本印刷計劃於 2026 至 2028 年間投資 300 億日圓，專注於半導體光罩事業，並提升 EUV 曝光技術光罩的量產能力。同時，公司將強化光罩生產體系，涵蓋高端至低端市場，並啟動奈米壓印光刻設備模板的量產。此外，針對 TGV 玻璃核心基板，預計於 2025 年底啟動試點生產，並於 2028 年實現量產。此舉旨在提升公司在半導體領域的競爭力，並實現 2028 年營收較 2024 年增長 55% 的目標。
